В книге рассматриваются некоторые физико-технологические вопросы применения потоков ионов и электронов в производстве микросхем, в частности ионное и электроннолучевое напыление тонких пленок, их обработка потоками ионов и электронов, электроннолучевое легирование полупроводников, электроннолучевая сварка, применение электронного и ионного лучей для контроля за ходом технологического процесса и т. п.
Предназначена для инженеров, техников и рабочих радиоэлектронной промышленности, студентов технических вузов, учащихся техникумов.
ВВЕДЕНИЕ
В настоящее время исключительно быстро возрастает сложность радиоэлектронной аппаратуры и ее функциональная нагрузка. Поэтому старые методы ее создания, основанные на дискретных элементах, стали неприемлемы, так как они не позволяют разрешить постоянно углубляющееся противоречие между усложнением радиоэлектронной аппаратуры, увеличением ее функциональной сложности и повышением надежности, экономности, технологичности, снижением весогабарит-ных показателей. Изыскание путей разрешения этого противоречия привело к созданию нового научно-технического направления электроники — микроэлектроники. С помощью сложного комплекса физических, химических, схемотехнических, технологических и других методов и приемов создаются высоконадежные миниатюрные экономически выгодные электронные устройства и схемы:, в едином технологическом цикле.
Основной элементной базой микроэлектроники являются интегральные схемы (ИС), представляющие собой микроминиатюрные функциональные узлы электронной аппаратуры, в которых элементы и соединительные проводники изготавливаются в едином технологическом цикле на поверхности (или в объеме) материала основания (подложки), имеют общую герметизацию и Защиту от механических воздействий.
Интегральные схемы позволяют реализовать подавляющее большинство аппаратных функций, причем наблюдается постоянное расширение сферы их использования и быстрое повышение качества.
Применению потоков электронов и ионов в производстве интегральных схем уделяется сейчас болыыое внимание во всем мире. Основные усилия направлены на совершенствование конструкций электронно-ионного оборудования и разработку автоматизированных технр-логических процессов. Успешно ведутся работы в э;гой области в нашей стране. В настоящее время созданы
СОДЕРЖАНИЕ
Введение.......... 3
Использование электронных лучей при изготовлении тонких пленок ..... 6
Ионные методы осаждения тонких пленок 27 Электронно-ионные методы формирования рисунка тонкопленочных интегральных микросхем ..........51
Электронно-ионные методы в производстве монолитных интегральных микросхем . . 61 Другие области применения электронных и ионных потоков и лучей......70
Цена: 150руб.
